Pulsed Laser Deposition
脉冲激光沉积系统
观察窗
1x DN 100CF, 1x DN 63CF
激光入射
1x DN 63CF
样品台
2Inch
靶台
1Inch
加热器
~800℃
真空度
~5*10-8 mbar
分子泵抽气口
1x DN 160CF
前级抽气口
1x DN 40CF
旁路抽气口
真空计
~10-9mbar
快开门接口
1x DN 100CF
气体入口
2x DN 16CF