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脉冲激光沉积系统

Pulsed Laser Deposition

 

脉冲激光沉积系统

观察窗

1x DN 100CF, 1x DN 63CF

激光入射

1x DN 63CF

样品台

2Inch

靶台

1Inch

加热器

~800

真空度

~5*10-8 mbar

分子泵抽气口

1x DN 160CF

前级抽气口

1x DN 40CF

旁路抽气口

1x DN 40CF

真空计

~10-9mbar

快开门接口

1x DN 100CF

气体入口

2x DN 16CF

 

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